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C2H2F2を用いたプラズマCVD法による撥水性薄膜合成とその密着性の検討
発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2008年07月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
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日本語フィールド
著者：
和田憲和、三沢達也、大津康徳、藤田寛治
題名：
C2H2F2を用いたプラズマCVD法による撥水性薄膜合成とその密着性の検討
発表情報：
電気学会プラズマ研究会 PST-08-40（2008年7月4日；広島工業大学）
キーワード：
概要：
抄録：
英語フィールド
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