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Influence of Substrate Biasing on (Ba,Sr)TiO3 Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Sputtering

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2004年
DOI：
会議属性：
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
T. Matsumoto, A. Niino, Y. Ohtsu, T. Misawa, et.al.
題名：
Influence of Substrate Biasing on (Ba,Sr)TiO3 Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Sputtering
発表情報：
Jpn. J. Appl. Phys. 巻: 43 ページ: 1144-1148
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
T. Matsumoto, A. Niino, Y. Ohtsu, T. Misawa, et.al.
Title：
Influence of Substrate Biasing on (Ba,Sr)TiO3 Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Sputtering
Announcement information:
Jpn. J. Appl. Phys. Vol: 43 Page: 1144-1148

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