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Siイオン注入ドーピング技術を適用したAlGaN/AlN/GaN HEMT
発表形態:
一般講演(学術講演を含む)
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2009年03月
DOI:
会議属性:
国内会議
査読:
無し
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日本語フィールド
著者:
南條拓真、吹田宗義、今井章文、阿部雄次、大石敏之、柳生栄治、吉新喜市、徳田安紀
題名:
Siイオン注入ドーピング技術を適用したAlGaN/AlN/GaN HEMT
発表情報:
電気学会 電子デバイス研究会 EDD-09-48, 2009年3月10日、pp.77-81.
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