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Semiconductor device with sidewall spacers and elevated source/drain region

発表形態：
知的財産権の出願等（著作権は除く）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2003年09月
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
T.Oishi, K.Sugihara, N.Miura, Y.Abe, Y.Tokuda
題名：
Semiconductor device with sidewall spacers and elevated source/drain region
発表情報：
第US 6617654 B2号，2003年9月9日登録．
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
T.Oishi, K.Sugihara, N.Miura, Y.Abe, Y.Tokuda
Title：
Semiconductor device with sidewall spacers and elevated source/drain region
Announcement information:

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