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Reactive ion etching of BiSrCaCuO superconducting thin films using ethane and oxygen

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
1994年
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
T.Oishi, T.Takami, K.Kuroda, K.Kojima, O.Wada, and M.Nunoshita
題名：
Reactive ion etching of BiSrCaCuO superconducting thin films using ethane and oxygen
発表情報：
Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) pp.L315-L317.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
T.Oishi, T.Takami, K.Kuroda, K.Kojima, O.Wada, and M.Nunoshita
Title：
Reactive ion etching of BiSrCaCuO superconducting thin films using ethane and oxygen
Announcement information:
Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) pp.L315-L317.

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