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Protection of field oxide in trench isolation against contact hole etching to improve alignment tolerance

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
1998年
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
T.Oishi, K.Shiozawa, K.Sugihara, Y.Abe and Y.Tokuda
題名：
Protection of field oxide in trench isolation against contact hole etching to improve alignment tolerance
発表情報：
Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) pp.L833-L835.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
T.Oishi, K.Shiozawa, K.Sugihara, Y.Abe and Y.Tokuda
Title：
Protection of field oxide in trench isolation against contact hole etching to improve alignment tolerance
Announcement information:
Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) pp.L833-L835.

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