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”スプレーICP法によるLa2-xSrxNiO4(x=0～1.4)薄膜の調製”
発表形態：
資料・解説・論説・研究報告・総合雑誌の論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
1998年
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
無し
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日本語フィールド
著者：
永野正光, 有村雅司, 一ノ瀬弘道
題名：
”スプレーICP法によるLa2-xSrxNiO4(x=0～1.4)薄膜の調製”
発表情報：
セラミックデータブック’98, 工業製品技術協会, 26, No.80 (1998) pp.161-163.
キーワード：
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抄録：
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