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”Characterization of TiSi2 thin film prepared by plasma assisted CVD”

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2002年
DOI:
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
O. A. Fouad, M. Yamazato, H. Ichinose, M. Nagano and A. El-Barawy
題名:
”Characterization of TiSi2 thin film prepared by plasma assisted CVD”
発表情報:
Egypt. J. Chem., 45, No.3 (2002) 589-98.
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

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