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”Characterization of TiSi2 thin film prepared by plasma assisted CVD”

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2002年
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
O. A. Fouad, M. Yamazato, H. Ichinose, M. Nagano and A. El-Barawy
題名：
”Characterization of TiSi2 thin film prepared by plasma assisted CVD”
発表情報：
Egypt. J. Chem., 45, No.3 (2002) 589-98.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

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