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”Titanium disilicide formation by rf plasma enhanced chemical vapor deposition and film properties”

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2003年
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
O. A. Fouad, M. Yamazato, H. Ichinose and M. Nagano
題名：
”Titanium disilicide formation by rf plasma enhanced chemical vapor deposition and film properties”
発表情報：
Applied Surface Science, 206 (2003) 159-66.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

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