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Microscopic investigations of aluminum nitride thin films grown by low-temperature reactive sputtering

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2005年
DOI:
会議属性:
査読:
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Guo, Q. X / Yoshitugu, M / Tanaka, T / Nishio, M / Ogawa, H
題名:
Microscopic investigations of aluminum nitride thin films grown by low-temperature reactive sputtering
発表情報:
THIN SOLID FILMS 巻: 483 号: 1/2 ページ: 16-20
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Guo, Q. X / Yoshitugu, M / Tanaka, T / Nishio, M / Ogawa, H
Title:
Microscopic investigations of aluminum nitride thin films grown by low-temperature reactive sputtering
Announcement information:
THIN SOLID FILMS Vol: 483 Issue: 1/2 Page: 16-20


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