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Reactive Ion Etching of Zinc Oxide Using Methane and Hydrogen Gases

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2006年
DOI：
会議属性：
査読：
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Guo, Q. X / Uesugi, N / Tanaka, T / Nishio, M / Ogawa, H
題名：
Reactive Ion Etching of Zinc Oxide Using Methane and Hydrogen Gases
発表情報：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS 巻: 45 号: 11 ページ: 8597-8599
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Guo, Q. X / Uesugi, N / Tanaka, T / Nishio, M / Ogawa, H
Title：
Reactive Ion Etching of Zinc Oxide Using Methane and Hydrogen Gases
Announcement information:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1 REGULAR PAPERS SHORT NOTES AND REVIEW PAPERS Vol: 45 Issue: 11 Page: 8597-8599

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