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Selective Dry Etching of Zinc Telluride Using Aluminum Mask

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2004年
DOI：
会議属性：
査読：
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Q.X. Guo, Y. Matsumoto, T. Tanaka, M. Nishio, and H. Ogawa
題名：
Selective Dry Etching of Zinc Telluride Using Aluminum Mask
発表情報：
Japanese Journal of Applied Physics 号: 43 ページ: 4157-4158
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Q.X. Guo, Y. Matsumoto, T. Tanaka, M. Nishio, and H. Ogawa
Title：
Selective Dry Etching of Zinc Telluride Using Aluminum Mask
Announcement information:
Japanese Journal of Applied Physics Issue: 43 Page: 4157-4158

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