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フェニル基終端Siナノクラスターの電子状態

発表形態:
一般講演(学術講演を含む)
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2011年06月
DOI:
会議属性:
国内会議
査読:
無し
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
今村真幸、藤正修司、保田英洋、高橋和敏、鎌田雅夫、小林宏成、根岸雄一
題名:
フェニル基終端Siナノクラスターの電子状態
発表情報:
平成23年度 九州表面・真空研究会2011
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
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Announcement information:


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