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高周波マグネトロンスパッタリング法によるCu3N薄膜の膜特性に及ぼす基板温度及び基板位置の効果

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2021年12月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
大石美帆，齊藤勝彦，郭其新，田中徹
題名：
高周波マグネトロンスパッタリング法によるCu3N薄膜の膜特性に及ぼす基板温度及び基板位置の効果
発表情報：
2021年度応用物理学会九州支部学術講演会, オンライン, 2021年12月4日, 4Bp-11.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
大石美帆，齊藤勝彦，郭其新，田中徹
Title：
高周波マグネトロンスパッタリング法によるCu3N薄膜の膜特性に及ぼす基板温度及び基板位置の効果
Announcement information:
2021年度応用物理学会九州支部学術講演会, オンライン, 2021年12月4日, 4Bp-11.

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