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Influence of oxygen flow rate on properties of Al-doped ZnCdO thin films grown by radicalsource molecular beam epitaxy

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2019年11月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
HyoChang Jang, Katsuhiko Saito, Qixin Guo, Tooru Tanaka
題名：
Influence of oxygen flow rate on properties of Al-doped ZnCdO thin films grown by radicalsource molecular beam epitaxy
発表情報：
The 4th Asian Applied Physics Conference (Asian-APC), 23 November, 2019, Kumamoto, 23Ep-5.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
HyoChang Jang, Katsuhiko Saito, Qixin Guo, Tooru Tanaka
Title：
Influence of oxygen flow rate on properties of Al-doped ZnCdO thin films grown by radicalsource molecular beam epitaxy
Announcement information:
The 4th Asian Applied Physics Conference (Asian-APC), 23 November, 2019, Kumamoto, 23Ep-5.

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