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Effect of oxygen flow rate on properties of Cu4O3 thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering

発表形態:
原著論文
主要業績:
主要業績
単著・共著:
共著
発表年月:
2020年02月
DOI:
会議属性:
指定なし
査読:
有り
リンク情報:

日本語フィールド

著者:
Md Abdul Majed Patwary, Chun Yuen Ho, Katsuhiko Saito, Qixin Guo, Kin Man Yu, Wladek Walukiewicz, and Tooru Tanaka
題名:
Effect of oxygen flow rate on properties of Cu4O3 thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering
発表情報:
Journal of Applied Physics, 127, 085302 (2020). 巻: 127 ページ: 85302
キーワード:
概要:
抄録:

英語フィールド

Author:
Md Abdul Majed Patwary, Chun Yuen Ho, Katsuhiko Saito, Qixin Guo, Kin Man Yu, Wladek Walukiewicz, and Tooru Tanaka
Title:
Effect of oxygen flow rate on properties of Cu4O3 thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering
Announcement information:
Journal of Applied Physics, 127, 085302 (2020). Vol: 127 Page: 85302


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