MF研究者総覧

教員活動データベース

詳細

Effect of oxygen flow rate and temperature on Cu4O3 Thin Films by Radio Frequency Sputtering

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2018年12月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Md Abdul Majed Patwary, Tooru Tanaka, Katsuhiko Saito, Qixin Guo, Kin Man Yu, and Wladek Walukiewicz
題名：
Effect of oxygen flow rate and temperature on Cu4O3 Thin Films by Radio Frequency Sputtering
発表情報：
The 3rd Asian Applied Physics Conference (Asian-APC), 8 December, 2018, Fukuoka, 8Po-6.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Md Abdul Majed Patwary, Tooru Tanaka, Katsuhiko Saito, Qixin Guo, Kin Man Yu, and Wladek Walukiewicz
Title：
Effect of oxygen flow rate and temperature on Cu4O3 Thin Films by Radio Frequency Sputtering
Announcement information:
The 3rd Asian Applied Physics Conference (Asian-APC), 8 December, 2018, Fukuoka, 8Po-6.

Copyright © MEDIA FUSION Co.,Ltd. All rights reserved.