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Influence of oxygen flow rate and substrate positions on properties of Cu oxide thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering using pure Cu target

発表形態：: 原著論文
主要業績：: 主要業績
単著・共著：: 共著
発表年月：: 2019年01月

DOI：
会議属性：: 指定なし
査読：: 有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：

Md Abdul Majed Patwary, Katsuhiko Saito, Qixin Guo, Tooru Tanaka

題名：

Influence of oxygen flow rate and substrate positions on properties of Cu oxide thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering using pure Cu target

発表情報：

Thin Solid Films, Vol. 675 (2019) pp. 59-65. 巻: 675 ページ: 59-65

キーワード：

概要：

抄録：

英語フィールド

Author：

Md Abdul Majed Patwary, Katsuhiko Saito, Qixin Guo, Tooru Tanaka

Title：

Influence of oxygen flow rate and substrate positions on properties of Cu oxide thin films fabricated by radio frequency magnetron sputtering using pure Cu target

Announcement information:

Vol: 675 Page: 59-65