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金属積層プリカーサを用いたセレン化法によるCu2ZnSnSe4薄膜の作製

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2017年03月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
嘉藤 祐介, 辻 俊一, 田中 徹, 齊藤 勝彦, 郭 其新, 西尾 光弘
題名：
金属積層プリカーサを用いたセレン化法によるCu2ZnSnSe4薄膜の作製
発表情報：
2017年第64回応用物理学会春季学術講演会, パシフィコ横浜, 平成29年3月17日, 17a-513-7.
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
嘉藤 祐介, 辻 俊一, 田中 徹, 齊藤 勝彦, 郭 其新, 西尾 光弘
Title：
金属積層プリカーサを用いたセレン化法によるCu2ZnSnSe4薄膜の作製
Announcement information:
2017年第64回応用物理学会春季学術講演会, パシフィコ横浜, 平成29年3月17日, 17a-513-7.

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