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MOVPE法により成長したPドープZnTeエピ膜における表面形態と基板温度の関係

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2006年11月
DOI：
会議属性：
国内会議
査読：
無し
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
藤本賢治, 山口浩司, 斉藤勝彦, 田中徹, 郭基新, 西尾光弘, 小川博司
題名：
MOVPE法により成長したPドープZnTeエピ膜における表面形態と基板温度の関係
発表情報：
平成18年度応用物理学会九州支部学術講演会 大分
キーワード：
平成18年度応用物理学会九州支部学術講演会 大分
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
藤本賢治, 山口浩司, 斉藤勝彦, 田中徹, 郭基新, 西尾光弘, 小川博司
Title：
MOVPE法により成長したPドープZnTeエピ膜における表面形態と基板温度の関係
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