日本語フィールド
著者:Q.X. Guo, Y. Okazaki, Y. Kume, T. Tanaka, M. Nishio, and H. Ogawa題名:Reactive sputter deposition of AlInN thin films発表情報:Journal of Crystal Growth 巻: 300 ページ: 151-154キーワード:概要:抄録:英語フィールド
Author:Q.X. Guo, Y. Okazaki, Y. Kume, T. Tanaka, M. Nishio, and H. OgawaTitle:Reactive sputter deposition of AlInN thin filmsAnnouncement information:Journal of Crystal Growth Vol: 300 Page: 151-154