MF研究者総覧

教員活動データベース

詳細

Growth properties of reactive sputtered AlInN films

発表形態：
一般講演（学術講演を含む）
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2003年05月
DOI：
会議属性：
国際会議（国内開催を含む）
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Q.X. Guo, K. Yahata, T. Tanaka, M. Nishio and H. Ogawa
題名：
Growth properties of reactive sputtered AlInN films
発表情報：
5th International Conference on Nitride Semiconductors, Nara, May 25-30, 2003
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Q.X. Guo, K. Yahata, T. Tanaka, M. Nishio and H. Ogawa
Title：
Growth properties of reactive sputtered AlInN films
Announcement information:
5th International Conference on Nitride Semiconductors, Nara, May 25-30, 2003

Copyright © MEDIA FUSION Co.,Ltd. All rights reserved.