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Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing

著者：

Qixin GUO, Yusukei KUME, Tooru TANAKA, Mitsuhiro NISHIO and Hiroshi OGAWA

題名：

発表情報：

Japanese Journal of Applied Physics, Vol.44 (2005) pp.L863-L865. 巻: 44 ページ: L863-L865

キーワード：

概要：

抄録：

Author：

Qixin GUO, Yusukei KUME, Tooru TANAKA, Mitsuhiro NISHIO and Hiroshi OGAWA

Title：

Recovery from Dry Etching Damage in ZnTe by Thermal Annealing

Announcement information:

Japanese Journal of Applied Physics, Vol.44 (2005) pp.L863-L865. Vol: 44 Page: L863-L865