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Synchrotron radiation-excited etching of ZnTe using Ar gas

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2005年
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
Tanaka, T / Kume, Y / Hayashida, K / Saito, K / Nishio, M / Guo, Q / Ogawa, H
題名：
Synchrotron radiation-excited etching of ZnTe using Ar gas
発表情報：
NUCLEAR INSTRUMENTS AND METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B 巻: 238 号: 1/4 ページ: 115-118
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
Tanaka, T / Kume, Y / Hayashida, K / Saito, K / Nishio, M / Guo, Q / Ogawa, H
Title：
Synchrotron radiation-excited etching of ZnTe using Ar gas
Announcement information:
NUCLEAR INSTRUMENTS AND METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B Vol: 238 Issue: 1/4 Page: 115-118

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