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Micro-hardness, microstructures and thermal stability of (Ti,Cr,Al,Si)N films deposited by cathodic arc method

発表形態：
原著論文
主要業績：
主要業績
単著・共著：
共著
発表年月：
2008年
DOI：
会議属性：
指定なし
査読：
有り
リンク情報：

日本語フィールド

著者：
H. Ezura, K. Ichijo, H. Hasegawa, K. Yamamoto, A. Hotta, T. Suzuki
題名：
Micro-hardness, microstructures and thermal stability of (Ti,Cr,Al,Si)N films deposited by cathodic arc method
発表情報：
Vacuum 巻: 82 ページ: 476-481
キーワード：
概要：
抄録：

英語フィールド

Author：
H. Ezura, K. Ichijo, H. Hasegawa, K. Yamamoto, A. Hotta, T. Suzuki
Title：
Micro-hardness, microstructures and thermal stability of (Ti,Cr,Al,Si)N films deposited by cathodic arc method
Announcement information:
Vacuum Vol: 82 Page: 476-481

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